| 标题 |
Kinetic Monte Carlo Simulation of the Growth of AlN Films by Metal Organic Chemical Vapor Deposition 相关领域
金属有机气相外延
动力学蒙特卡罗方法
化学气相沉积
表面粗糙度
材料科学
沉积(地质)
表面光洁度
动能
相(物质)
薄膜
金属
增长率
岛屿生长
化学反应
氮化物
化学物理
蒙特卡罗方法
化学
纳米技术
冶金
复合材料
外延
有机化学
物理
几何学
图层(电子)
古生物学
统计
生物
量子力学
数学
沉积物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:physica status solidi (b) 作者:Jiadai An; Xianying Dai; Wujian Wu; Runqiu Guo; Lansheng Feng 出版日期:2019-08-22 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)