Methodology and practical application of an ArF resist model calibration

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标题	Methodology and practical application of an ArF resist model calibration ArF抗蚀剂模型标定方法及实际应用相关领域抵抗光学接近校正校准平版印刷术计算机科学投影（关系代数）光刻算法光学（聚焦）光学材料科学数学纳米技术物理统计图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.536343
DOI	10.1117/12.536343 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Ralf Ziebold; Bernd Küchler; Christoph Nölscher; Martin Robiger; Klaus Elian; et al 出版日期：2004-05-14
求助人	赖新儿在 2025-10-27 02:30:33 发布自贵州，悬赏 20 积分
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