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 Parameters of Plasma and Kinetics of Active Particles in CF4 (CHF3) + Ar Mixtures of a Variable Initial Composition 不同初始组成的CF4(CHF3)+Ar混合物中活性粒子的等离子体参数和动力学
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期刊：Russian Microelectronics 作者：Alexander Efremov; Д. Б. Мурин; Kwang‐Ho Kwon 出版日期：2018-11-01 |
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