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 Reactor wall effects in Si–Cl2–Ar atomic layer etching Si-Cl2-Ar原子层刻蚀中的反应器壁效应
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Joseph R. Vella; Mahmoud A. I. Elgarhy; Qinzhen Hao; Vincent M. Donnelly; David B. Graves 出版日期：2024-06-12 |
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