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标题
Study of wet and dry etching processes for antimonide-based photonic ICs
锑化物基光子IC湿法和干法刻蚀工艺研究
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DOI
10.1364/OME.9.001786 doi
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小小 在 2025-07-21 11:28:59 发布自美国,悬赏 10 积分
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