| 标题 |
  Study of wet and dry etching processes for antimonide-based photonic ICs 锑化物基光子IC湿法和干法刻蚀工艺研究
相关领域
材料科学
干法蚀刻
锑
光电子学
蚀刻（微加工）
腐蚀坑密度
表面粗糙度
钝化
各向同性腐蚀
制作
基质（水族馆）
表面光洁度
感应耦合等离子体
湿法清洗
反应离子刻蚀
纳米技术
等离子体
图层（电子）
复合材料
替代医学
海洋学
病理
地质学
物理
生物
医学
量子力学
生态学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
嘻嘻哈哈
林狗
冷酷以山
快点毕业
整齐的孤菱
v0id
美好亦云
李杨
sadboy
七听
璐璐
YifanWang
你嵙这个期刊没买
平常迎天
Xixi
拉迪姆
GingerF
OK
忧心的曼凝
agathahqs
皖公网安备34019202002308
