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标题
Etch characteristics of KOH, TMAH and dual doped TMAH for bulk micromachining of silicon
KOH、TMAH和双掺杂TMAH在硅体微加工中的刻蚀特性
相关领域
硅 材料科学 蚀刻(微加工) 微电子机械系统 表面微加工 二氧化硅 表面粗糙度 兴奋剂 腐蚀坑密度 体微机械加工 干法蚀刻 分析化学(期刊) 制作 化学工程 纳米技术 光电子学 复合材料 化学 色谱法 图层(电子) 替代医学 病理 工程类 医学
网址
DOI
10.1016/j.mejo.2005.07.012 doi
其它 期刊:Microelectronics Journal
作者:Koushik Biswas; S. Kal
出版日期:2005-11-03
求助人
咚咚咚 在 2025-07-04 08:45:18 发布自北京,悬赏 10 积分
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