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Concentration Dependence of the Diffusion Coefficient of Boron in Silicon
硼在硅中扩散系数的浓度依赖性
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网址
https://doi.org/10.1143/jjap.19.217
DOI
10.1143/jjap.19.217 doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Satoru Matsumoto; Yutaka Ishikawa; Yoshiki Shirai; Satoshi Sekine; Tatsuya Niimi
出版日期：1980-01-01
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Planck 在 2025-05-22 11:03:47 发布自浙江，悬赏 10 积分
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