| 标题 |
 Chemical Properties of Oxidized Silicon Carbide Surfaces upon Etching in Hydrofluoric Acid 相关领域
氢氟酸
蚀刻（微加工）
碳化硅
硅
化学
微电子
各向同性腐蚀
氧化物
化学计量学
缓冲氧化物腐蚀
无机化学
纳米技术
化学工程
图层（电子）
表面改性
表面能
反应离子刻蚀
材料科学
有机化学
物理化学
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of the American Chemical Society 作者：Sarit Dhar; Oliver Seitz; Mathew D. Halls; Sungho Choi; Yves J. Chabal; et al 出版日期：2009-10-29 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
null
Kao
Criminology34
秋风
aajhajkahna
无极微光
GingerF
印第安老斑鸠
FIN
初景
cdercder
乐空思
Nole
DW
XX
St
年轻的煎饼
七月流火
曾恒敬
kekekekekeke
皖公网安备34019202002308
