Optimization of a SiOx/SiNxOyCz multilayer structure for a reliable gas diffusion barrier via low-temperature plasma-enhanced atomic layer deposition

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标题	Optimization of a SiOx/SiNxOyCz multilayer structure for a reliable gas diffusion barrier via low-temperature plasma-enhanced atomic layer deposition
网址	https://doi.org/10.1016/j.ceramint.2019.01.027
DOI	10.1016/j.ceramint.2019.01.027 doi
其它	期刊：Ceramics International 作者：Ju-Hwan Han; Su Ho Lim; Jin-Myung Choi; Seong-Hyeon Lee; Woojin Jeon; Jin-Seong Park 出版日期：2019
求助人	wait 在 2026-04-09 16:41:58 发布自上海，悬赏 10 积分
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