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Ar/NH3 Radio‐Frequency Plasma Etching and N‐doping to Stabilize Metallic Phase 1T‐MoS2 for Fast and Durable Sodium‐Ion Storage |
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期刊:Advanced Functional Materials 作者:Shijun Tian; Weiheng Chen; Ruoxing Wang; Chu Qin; Zhong‐Jie Jiang; et al 出版日期:2024-07-10 |
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(2025-6-4)