| 标题 |
Automatic defect review for EUV photomask reticles by atomic force microscope |
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10.1117/12.2197382
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| 其它 |
期刊:SPIE Photomask Technology 作者:Ardavan Zandiatashbar; Byong Kim; Y. Yoo; Keibock Lee; Ahjin Jo; et al 出版日期:2015-10-23 |
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(2025-6-4)