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 Printing of structures less than 0,3 μm by i-line exposure using resists TDMR-AR80 and TDMR-AR95 相关领域
抵抗
薄脆饼
步进电机
焦点深度（构造）
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期刊：SPIE Proceedings 作者：A. Behrendt; T. Dow; K. Stoeflin 出版日期：2007-05-16 |
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