| 标题 |
Particle charging during pulsed EUV exposures with afterglow effect 相关领域
极紫外光刻
粒子(生态学)
极端紫外线
余辉
等离子体
粒径
梁(结构)
纳米颗粒
材料科学
原子物理学
粒子数
光学
化学
光电子学
纳米技术
物理
激光器
物理化学
天文
地质学
海洋学
量子力学
伽马射线暴
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Plasma Sources Science and Technology 作者:Manis Chaudhuri; L.C.J. Heijmans; Mark van de Kerkhof; Pavel Krainov; D. Astakhov; et al 出版日期:2023-08-23 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|