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标题
High-Temperature Stable Amorphous Sn-Rich InSnGaO Thin Films Fabricated Via Atomic Layer Deposition for Next-Generation Dynamic Random-Access Memory Applications
用于下一代动态随机存储器应用的原子层沉积高温稳定非晶富Sn InsNgAO薄膜
相关领域
无定形固体 材料科学 原子层沉积 热稳定性 光电子学 电子迁移率 德拉姆 半导体 相(物质) 动态随机存取存储器 薄膜 纳米技术 化学工程 计算机科学 化学 结晶学 半导体存储器 工程类 有机化学 操作系统
网址
DOI
10.1021/acs.nanolett.4c04499 doi
其它 期刊:Nano Letters
作者:Seong‐Hwan Ryu; Hye-Mi Kim; Kwang Hee Lee; Ha‐Jun Sung; Jee-Eun Yang; et al
出版日期:2024-12-05
求助人
白石桥的锁匠 在 2025-12-10 09:03:16 发布自内蒙古,悬赏 10 积分
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