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Influence of deposition conditions on mechanical properties of a-C:H:SiOx films prepared by plasma-assisted chemical vapor deposition method
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备注
需要正式发表版
网址
DOI
10.1016/j.surfcoat.2018.06.019 doi
其它 期刊:Surface and Coatings Technology
作者:A.S. Grenadyorov; А.А. Solovyev; К. В. Оскомов; В. С. Сыпченко
出版日期:2018-06-14
求助人
PhysicsXX 在 2026-01-09 14:39:19 发布自中国,悬赏 20 积分
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