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  Implementing 0.1 nm B4C barriers in ultrashort period 1.0 nm W/Si multilayers for increased soft x-ray reflectance 相关领域
材料科学
碳化硼
硅化物
溅射沉积
波长
光学
碳化硅
光电子学
溅射
硅
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纳米技术
冶金
物理
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期刊：Journal of Applied Physics 作者：D. IJpes; Andrey Yakshin; Jacobus M. Sturm; Marcelo Ackermann 出版日期：2023-06-22 |
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