| 标题 |
  Surface Uniformity of Wafer-Scale 4H-SiC Epitaxial Layers Grown under Various Epitaxial Conditions 不同外延条件下生长的晶圆级4H-SiC外延层的表面均匀性
相关领域
外延
薄脆饼
材料科学
表面粗糙度
光电子学
均方根
表面光洁度
复合材料
电气工程
图层（电子）
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Coatings 作者：Siqi Zhao; Jiulong Wang; Guoguo Yan; Zhanwei Shen; Wanshun Zhao; et al 出版日期：2022-04-27 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
ssfg
22336
Copyright
vict
GingerF
Nole
vampv
OK
英俊乐珍
初景
CJH
vivi
yjh123
哈哈哈哈
YifanWang
GO1
张婉婉
行走的荷尔蒙
jiaoer
吃肉的兔子
皖公网安备34019202002308
