Exploring proximity effects and large depth of field in helium ion beam lithography: large-area dense patterns and tilted surface exposure

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标题	Exploring proximity effects and large depth of field in helium ion beam lithography: large-area dense patterns and tilted surface exposure
网址	https://doi.org/10.1088/1361-6528/aabe22
DOI	10.1088/1361-6528/aabe22 doi
其它	期刊：Nanotechnology 作者：Ranveig Flatabø; Akshay Agarwal; Richard Hobbs; Martin M Greve; Bodil Holst; Karl K Berggren 出版日期：2018
求助人	Jack 在 2026-02-04 21:27:06 发布自天津，悬赏 10 积分
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