Investigation of Optimum Deposition Conditions of Radio Frequency Reactive Magnetron Sputtering of Al0.7Sc0.3N Film with Thickness down to 20 nm

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标题	Investigation of Optimum Deposition Conditions of Radio Frequency Reactive Magnetron Sputtering of Al0.7Sc0.3N Film with Thickness down to 20 nm 射频反应磁控溅射20nm以下Al0.7Sc 0.3 N薄膜最佳沉积条件的研究相关领域材料科学铁电性矫顽力溅射结晶度分析化学（期刊）复合材料溅射沉积薄膜电介质凝聚态物理纳米技术光电子学色谱法物理化学
网址	https://doi.org/10.1002/aelm.202200726
DOI	10.1002/aelm.202200726 doi
其它	期刊：Advanced electronic materials 作者：Seung Kyu Ryoo; Kyung Do Kim; Hyeon Woo Park; Yong Bin Lee; Suk Hyun Lee; et al 出版日期：2022-09-02
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