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 Plasma etching of SiO2 using remote-type pin-to-plate dielectric barrier discharge 利用远程型针对板介质阻挡放电等离子体刻蚀SiO2
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期刊：Journal of Applied Physics 作者：Jae Beom Park; Se Jin Kyung; Geun Young Yeom 出版日期：2008-10-15 |
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