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标题
Plasma etching of SiO2 using remote-type pin-to-plate dielectric barrier discharge
利用远程型针对板介质阻挡放电等离子体刻蚀SiO2
相关领域
分析化学（期刊） 介质阻挡放电 潘宁电离 蚀刻（微加工） 电介质 等离子体 体积流量 大气压力 化学 电离 腐蚀坑密度 等离子体刻蚀 氧气 材料科学 图层（电子） 复合材料 离子 色谱法 光电子学 有机化学 物理 量子力学 地质学 海洋学
网址
https://doi.org/10.1063/1.2999645
DOI
10.1063/1.2999645 doi
其它 期刊：Journal of Applied Physics
作者：Jae Beom Park; Se Jin Kyung; Geun Young Yeom
出版日期：2008-10-15
求助人
Passion 在 2025-08-25 14:56:04 发布自浙江，悬赏 10 积分
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