Atomic layer deposition of metal and metal oxides: Mechanisms, challenges, and future prospects

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标题	Atomic layer deposition of metal and metal oxides: Mechanisms, challenges, and future prospects
网址	https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2025.183864
DOI	10.1016/j.jallcom.2025.183864 doi
其它	期刊：Journal of Alloys and Compounds 作者：Vu Hung Anh Tran; S. Cathrin Lims; Nadia Anwar; Muqarrab Ahmed; Nazia Iram; et al 出版日期：2025
求助人	吴雨在 2025-10-16 13:27:36 发布自天津，悬赏 10 积分
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