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 Low-temperature plasma-enhanced atomic layer deposition of Ga2O3 films using N2O plasma for silicon surface passivation 相关领域
钝化
材料科学
原子层沉积
无定形固体
镓
载流子寿命
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等离子体增强化学气相沉积
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光电子学
保形涂层
氧化硅
化学工程
宽禁带半导体
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期刊：Applied Surface Science 作者：Alexander Uvarov; Artem Baranov; Vyacheslav Pozdeev; Alina Maksimova; Ekaterina Vyacheslavova; et al 出版日期：2025-11-04 |
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