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LCDU enhancement of 2D layout through curvilinear solutions for DRAM DUV critical layers |
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期刊:Optical and EUV Nanolithography XXXVIII 作者:Ching-Ya Huang; Kao-Tun Chen; Chun-Sheng Wu; Chao-Yi Huang; Jen-Hsiang Tsai; et al 出版日期:2025-02-20 |
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