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标题
Preparation of Br-terminated Si(100) and Si(111) surfaces and their use as atomic layer deposition resists
相关领域
抵抗 原子层沉积 图层（电子） 沉积（地质） 材料科学 纳米技术 硅 光电子学 地质学 沉积物 古生物学
网址
https://doi.org/10.1116/6.0003941
DOI
10.1116/6.0003941 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
作者：John R. Mason; Andrew V. Teplyakov
出版日期：2024-10-21
求助人
无私的青槐 在 2026-01-07 09:48:35 发布自贵州，悬赏 10 积分
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