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标题
Effect of ion control strategies on the deposition rate and properties of copper films in bipolar pulse high power impulse magnetron sputtering
相关领域
高功率脉冲磁控溅射 材料科学 微观结构 复合材料 溅射沉积 脉冲激光沉积 偏压 分析化学（期刊） 溅射 电压 薄膜 纳米技术 电气工程 化学 色谱法 工程类
网址
https://doi.org/10.1007/s10853-022-08036-4
DOI
10.1007/s10853-022-08036-4 doi
其它 期刊：Journal of Materials Science
作者：Xuebing Bai; Qun Cai; Wenhao Xie; Yuqiao Zeng; Xuhai Zhang
出版日期：2022-12-13
求助人
manutd920223 在 2026-01-06 22:11:59 发布自中国台湾，悬赏 10 积分
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