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标题
Oxygen-Induced Residual Stress Reduction of Cubic Boron Nitride Films: Reinterpretation of Ye’s Results Considering Interfacial Turbostratic Boron Nitride Layer
相关领域
残余应力 材料科学 氮化硼 图层（电子） 氧气 硼 复合材料 压力（语言学） 氮化物 冶金 化学 哲学 有机化学 语言学
网址
https://doi.org/10.1007/s12540-022-01235-3
DOI
10.1007/s12540-022-01235-3 doi
其它 期刊：Metals and Materials International
作者：Young‐Hwan Choi; Joo‐Youl Huh; Young‐Joon Baik
出版日期：2022-06-01
求助人
jeffrey 在 2026-01-11 20:28:21 发布自江西，悬赏 10 积分
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