Low temperature deposition of a-SiC:H thin films applying a dual plasma source process

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标题	Low temperature deposition of a-SiC:H thin films applying a dual plasma source process 双等离子体源低温沉积a-SiC：H薄膜相关领域材料科学薄膜弹性后坐力检测无定形固体碳化硅等离子体光电子学硅分析化学（期刊）感应耦合等离子体复合材料纳米技术化学结晶学量子力学物理色谱法
网址	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2016.07.030
DOI	10.1016/j.tsf.2016.07.030 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：Tobias Frischmuth; Michael Schneider; Iva Bogdanović Radović; Zdravko Siketić; Daniel Maurer; et al 出版日期：2016-07-17
求助人	hh 在 2025-06-11 01:57:12 发布自湖北，悬赏 10 积分
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