Low temperature deposition of a-SiC:H thin films applying a dual plasma source process

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作者
Tobias Frischmuth,Michael Schneider,Iva Bogdanović Radović,Zdravko Siketić,Daniel Maurer,Thomas Grille,Ulrich Schmid
出处
期刊:Thin Solid Films [Elsevier BV]
卷期号:616: 164-171 被引量:13
标识
DOI:10.1016/j.tsf.2016.07.030

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