| 标题 |
 Atomistic mechanisms of Si chemical mechanical polishing in aqueous H2O2: ReaxFF reactive molecular dynamics simulations H2O2水溶液中硅化学机械抛光的原子机理：ReaxFF反应分子动力学模拟
相关领域
雷亚克夫
化学机械平面化
分子动力学
水溶液
磨料
基质（水族馆）
材料科学
化学工程
硅
粒子（生态学）
化学反应
化学物理
化学
抛光
纳米技术
计算化学
复合材料
物理化学
冶金
有机化学
地质学
工程类
原子间势
海洋学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Computational Materials Science 作者：Jialin Wen; Tianbao Ma; Weiwei Zhang; Adri C.T. van Duin; Xinchun Lu 出版日期：2017-02-24 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
嘻嘻哈哈
浮游
xxfsx
Criminology34
eric888
chenqiumu
大聪明
GingerF
Stella
小青椒
那时花开
tianzml0
kentonchow
加菲丰丰
ho
Aaron567
tuanheqi
嘿嘿
子车茗
淡定的初夏
dl
殷勤的紫槐
哆啦十七
正己化人
皖公网安备34019202002308
