In vacuo growth studies of Ru thin films on Si, SiN, and SiO2 by high-sensitivity low energy ion scattering

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标题	In vacuo growth studies of Ru thin films on Si, SiN, and SiO2 by high-sensitivity low energy ion scattering
网址	https://pubs.aip.org/aip/jap/article-pdf/doi/10.1063/1.49605...
DOI	10.1063/1.4960577 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：R. Coloma Ribera; R. W. E. van de Kruijs; J. M. Sturm; A. E. Yakshin; F. Bijkerk 出版日期：2016-08-12
求助人	szf 在 2026-10-22 16:00:27 发布自山东，悬赏 10 积分
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