Rigorous electromagnetic simulator for extreme ultraviolet lithography and convolutional neural network reproducing electromagnetic simulations

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标题	Rigorous electromagnetic simulator for extreme ultraviolet lithography and convolutional neural network reproducing electromagnetic simulations
网址	https://doi.org/10.1117/1.jmm.24.2.024201
DOI	10.1117/1.jmm.24.2.024201 doi
其它	期刊：Journal of micro/nanopatterning, materials, and metrology 作者：Hiroyoshi Tanabe; Masayuki Shimoda; Atsushi Takahashi 出版日期：2025-05-11
求助人	gwzzw7 在 2026-11-03 15:20:20 发布自黑龙江，悬赏 20 积分
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