Metal oxide dry resist precursor requirement and advantage towards high-NA EUV lithography

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标题	Metal oxide dry resist precursor requirement and advantage towards high-NA EUV lithography
网址	http://dx.doi.org/10.1117/12.3087005
DOI	10.1117/12.3087005 doi
其它	期刊：Advances in Patterning Materials and Processes XLIII 作者：Li Yang; Christopher Caroff; Thao Nguyen; John Collins; Raymond Vrtis; et al 出版日期：2026-04-09
求助人	樊珩在 2026-10-07 17:57:35 发布自上海，悬赏 20 积分
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