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Synthesis of Fluorinated Materials for 193-nm Immersion Lithography and 157-nm Lithography |
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期刊:Journal of Photopolymer Science and Technology 作者:T. Yamashita; T. Ishikawa; T. Yoshida; T. Hayama; T. Araki; et al 出版日期:2005 |
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(2025-6-4)