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Fluorine-free tungsten films as low resistance liners for tungsten fill applications |
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期刊:2016 IEEE International Interconnect Technology Conference / Advanced Metallization Conference (IITC/AMC) 作者:J. Bakke; Y. Lei; Yi Xu; Kazuya Daito; Xinyu Fu; et al 出版日期:2016-05-23 |
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