A feasible approach to understand acid diffusion in DUV resist using open frame exposure

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标题	[高分] A feasible approach to understand acid diffusion in DUV resist using open frame exposure
网址	http://dx.doi.org/10.1117/12.3091343
DOI	10.1117/12.3091343 doi
其它	期刊：Ninth International Workshop on Advanced Patterning Solutions (IWAPS 2025) 作者：Ruiwen Ai; Liang Xu; Xingang Pan 出版日期：2025-12-03
求助人	虚心盼夏在 2026-08-11 12:46:25 发布自上海，悬赏 50 积分
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