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标题
a novel positive tone development method for defect reduction in the semiconductor 193 nm immersion lithography process
相关领域
浸没式光刻 材料科学 平版印刷术 抵抗 临界尺寸 光刻胶 光电子学 光刻 半导体器件制造 多重图案 半导体 光学 纳米技术 薄脆饼 物理 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1117/12.2297280
DOI
10.1117/12.2297280 doi
其它 期刊：
作者：Li Li; Xuan Liu; David Conklin; Tafsirul Islam
出版日期：2018-03-20
求助人
老实的忆之 在 2026-07-07 10:00:35 发布自天津，悬赏 20 积分
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