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Epitaxial growth of highly stacked SiGe(:B)/Si multilayers without strain relaxation for vertically stacked device applications
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DOI
10.1016/j.mattod.2025.12.030 doi
其它 期刊:Materials Today
作者:Dongmin Yoon; Seonwoong Jung; Hyerin Shin; Seokmin Oh; Jungwoo Kim; et al
出版日期:2025-12-30
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