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The Optimization of the Gate Polysilicon Deposition Process for Power MOSFETs 相关领域
功率MOSFET
材料科学
沉积(地质)
MOSFET
过程(计算)
工程物理
多晶硅耗尽效应
光电子学
电气工程
电子工程
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期刊:2025 Conference of Science and Technology of Integrated Circuits (CSTIC) 作者:Jiao Xuelu; Shen Shichao; Cheng Yongpeng; Yang Bo; Liu Yongkun; et al 出版日期:2025-03-24 |
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(2025-6-4)