| 标题 |
SiO2/HfO2 multilayers: impact of process parameters and stack geometry on the optical and structural properties |
| 网址 | |
| DOI |
10.1117/12.804434
doi
|
| 其它 |
期刊:Laser Damage 作者:D. Patel; P. Langston; A. Markosyan; E. Krous; B. Langdon; et al 出版日期:2008-10-19 |
| 求助人 | |
| 下载 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)