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标题
Effect of Composition on Electrical Properties of Multifunctional Silicon Nitride Films Deposited at Temperatures below 200℃
成分对200℃以下沉积多功能氮化硅薄膜电学性能的影响
相关领域
材料科学 氮化硅 氮化物 硅 作文（语言） 纳米技术 工程物理 光电子学 语言学 工程类 哲学 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.3365/kjmm.2012.50.4.331
DOI
10.3365/kjmm.2012.50.4.331 doi
其它 期刊：Korean Journal of Metals and Materials
作者：Wan‐Shick Hong; Ki‐Su Keum; Jae Dam Hwang; Joo Youn Kim
出版日期：2012-04-05
求助人
从容的元芹 在 2025-10-28 10:03:30 发布自黑龙江，悬赏 10 积分
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