Low Temperature Epitaxy Processes for Contact Resistivity Reduction - 科研通

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标题	Low Temperature Epitaxy Processes for Contact Resistivity Reduction 降低接触电阻率的低温外延工艺相关领域电阻率和电导率材料科学外延还原（数学）工程物理凝聚态物理光电子学复合材料电气工程工程类物理数学几何学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1149/ma2024-02335119mtgabs
DOI	10.1149/ma2024-02335119mtgabs doi
其它	期刊：Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society. CD-ROM) 作者：Joe Margetis; N. Breil; Tolle John; Abhishek Dube; Saurabh Chopra 出版日期：2024-11-22
求助人	AARON 在 2025-08-20 10:42:07 发布自广东，悬赏 10 积分
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