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标题
Growth of water-insoluble rutile GeO2 thin films on (001) TiO2 substrates with graded Ge x Sn1-x O2 buffer layers
具有梯度Ge x Sn1-x O2缓冲层的（001）TiO2衬底上水不溶性金红石GeO2薄膜的生长
相关领域
金红石 材料科学 薄膜 分析化学（期刊） 矿物学 结晶学 化学工程 化学 纳米技术 环境化学 工程类
网址
https://doi.org/10.35848/1882-0786/ad838e
DOI
10.35848/1882-0786/ad838e doi
其它 期刊：Applied Physics Express
作者：Kazuki Shimazoe; Temma Ogawa; Hiroyuki Nishinaka
出版日期：2024-10-01
求助人
JenniferShen 在 2025-08-30 19:12:58 发布，悬赏 10 积分
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