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 Selective mask deposition using SiCl4 plasma for highly selective etching process 用于高选择性蚀刻工艺的SiCl4等离子体选择性掩模沉积
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Miyako Matsui; Makoto Miura; Kenichi Kuwahara 出版日期：2023-09-21 |
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