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Lowering the Schottky Barrier Height by Quasi-van der Waals Contacts for High-Performance p-Type MoTe2 Field-Effect Transistors 用准范德华接触降低高性能p型MoTe2场效应晶体管肖特基势垒高度
相关领域
材料科学
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期刊:ACS Applied Materials & Interfaces 作者:Ze Yang; Xingkun Peng; Jinyong Wang; Jialong Lin; Chuanlun Zhang; et al 出版日期:2024-04-27 |
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