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[高分]
A study of photoresist bake influence on stochastics for DUV immersion lithography |
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| DOI |
10.1117/12.3090372
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期刊:Advanced Lithography 作者:E. Eustache; Bertrand Le-Gratiet; Jorge P. Nacenta Mendivil; J. Pradelles; Benoît Pernet; et al 出版日期:2026-04-10 |
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(2025-6-4)