| 标题 |
射频磁控反应溅射制备HfO2薄膜的工艺及电性能 |
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| DOI |
10.3969/j.issn.1000-2758.2008.02.023
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期刊:西北工业大学学报 作者:鹿芹芹 出版日期:2008-01-01 |
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(2025-6-4)