Platinum etching in Ar/O2 mixed gas plasma with a thin SiO2 etching mask

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标题	Platinum etching in Ar/O2 mixed gas plasma with a thin SiO2 etching mask
网址	http://dx.doi.org/10.1116/1.581050
DOI	10.1116/1.581050 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者：Teruo Shibano; Keisuke Nakamura; Tatsuo Oomori 出版日期：1998-03-01
求助人	仔细听在 2026-08-24 16:31:39 发布自湖北，悬赏 10 积分
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