| 标题 |
 An X-ray diffraction study of the amorphous structure of chemically vapor-deposited silicon nitride 相关领域
材料科学
无定形固体
氮化硅
衍射
化学气相沉积
氮化物
多形性
非晶硅
硅
纳米晶硅
结晶学
辐照
分析化学（期刊）
晶体硅
光学
纳米技术
化学
光电子学
物理
有机化学
核物理学
图层（电子）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Non-Crystalline Solids 作者：Tetsuji Aiyama; Takuro Fukunaga; Koichi Niihara; T. Hirai; Kenji Suzuki 出版日期：1979-06-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Kao
嘻嘻哈哈
Copyright
OK
Oracle
Nole
Sure
Criminology34
GingerF
GG
乐空思
行走的荷尔蒙
清平道人
fantasy
xingxing
无情的聪健
竹青
cdercder
youth
学术熊
皖公网安备34019202002308
