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 Analysis of the critical role and underlying mechanism of acetic acid in improving the chemical mechanical polishing efficiency of gallium nitride 乙酸在提高氮化镓化学机械抛光效率中的关键作用及机理分析
相关领域
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氮化镓
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期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Wenhao Xian; Baoguo Zhang; Shitong Liu; Yijun Wang; Sihui Qin; et al 出版日期：2025-06-10 |
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