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[高分]
 Stitching error reduction in electron beam lithography with in-situ feedback using self-developing resist 自显影抗蚀剂原位反馈电子束光刻中的拼接误差减小
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期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：Ripon Kumar Dey; Bo Cui 出版日期：2013-11-01 |
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